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中国光刻机行业正处于“自主攻坚”的关键赛程。在国产替代战略与下游需求爆发的双重驱动下，行业正经历从技术突破到市场放量的深刻变革。2025年，中国光刻机行业市场规模为197.34亿元，同比增长10.40%。根据海关总署多个方面数据显示，2026年1-4月，中国制半导体器件或集成电路用的分布重复光刻机进口数量为53台，同比下降1.85%；进口金额为1.05亿美元，同比下降23.79%。受美国对华技术封锁及荷兰、日本出口管制影响，高端ArFi及EUV设备对华交付受阻，国内晶圆厂被迫以成熟制程设备为主填补产能缺口。同期，中国制造平板显示器用的分布重复光刻机进口数量为16台，同比增长128.57%；进口金额为1.21亿美元，同比增长93.63%。相较于半导体光刻机的政治敏感性，面板光刻机技术门槛相比来说较低，且主要由Nikon、Canon供应，采购渠道更为畅通。
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光刻机是半导体制造中最核心的设备之一，其将掩模版上的电路图通过光学系统微缩后，精准曝光在涂有光刻胶的硅片上。通过这一“复印”过程，结合后续的显影、刻蚀等工艺，最终在硅片上构建出复杂的集成电路。
光刻机技术历经五代演进推动工艺节点持续演进，为摩尔定律的延续提供了核心支撑。自1970年代起，光刻机以汞灯光源为起点，g线nm）、i线nm）逐步推动工艺节点由微米级缩小至亚微米水平；进入1990年代，深紫外（DUV）KrF（248nm）和ArF（193nm）光源的应用，使工艺节点降至百纳米以下，并通过步进扫描和浸没式技术进一步突破至7nm。2013年，极紫外（EUV，13.5nm）光源实现产业化，成为7nm及以下先进制程的关键方案。围绕分辨率与曝光方式的持续革新，光刻机得以不断刷新可制造的最小特征尺寸，实现晶体管密度与性能的跃升，为下一代半导体工艺奠定基础。
光刻机行业产业链上游最重要的包含光学系统、光源系统、掩模台、工件台、对准系统、控制管理系统与软件平台、环境控制管理系统等。产业链中游为光刻机研发制造环节。产业链下游主要使用在于集成电路制造环节。
光刻机系统高度复杂，光源、光学与工件台三大部件构成性能与价值的核心。光刻机被誉为“超精密装备的珠穆朗玛峰”，整机由数十个子系统、数以万计零部件协同运作，包括自动对准、调焦调平、传输搬运、环境控制及整机控制等模块。其中，曝光光源系统、光学系统与工件台是整机性能的三大核心部件，直接决定分辨率、成像精度与产能水平。
中国集成电路产线满负荷运转、新扩产能持续释放，构成了产量高增的直接驱动力。2026年1-4月，中国集成电路产量为1769.7亿块，同比在35.52%。产量激增直接转化为对光刻机的刚性需求。
中国光刻机行业正处于“自主攻坚”的关键赛程。在国产替代战略与下游需求爆发的双重驱动下，行业正经历从技术突破到市场放量的深刻变革。2025年，中国光刻机行业市场规模为197.34亿元，同比增长10.40%。
根据海关总署多个方面数据显示，2026年1-4月，中国制半导体器件或集成电路用的分布重复光刻机进口数量为53台，同比下降1.85%；进口金额为1.05亿美元，同比下降23.79%。受美国对华技术封锁及荷兰、日本出口管制影响，高端ArFi及EUV设备对华交付受阻，国内晶圆厂被迫以成熟制程设备为主填补产能缺口。同期，中国制造平板显示器用的分布重复光刻机进口数量为16台，同比增长128.57%；进口金额为1.21亿美元，同比增长93.63%。相较于半导体光刻机的政治敏感性，面板光刻机技术门槛相比来说较低，且主要由Nikon、Canon供应，采购渠道更为畅通。
注：本文节选出自智研咨询发布的《研判2026！中国光刻机行业工作原理、迭代历程、市场规模、进口情况分析：半导体光刻机进口“量稳价跌”承压，行业正处于“自主攻坚”的关键赛程[图]》行业分析文章，如需获取行业文章全部内容，可进入智研咨询搜索查看。
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